1. Grau do material:W1.
2. Pureza do tungstênio:99,95%.
3. Densidade:não menos que 19,1g/cm3.
4. Tamanho:0,1 mm ~ 100 mm de espessura x 50-600 mm de largura x 50-1000 mm de comprimento.
5. Superfície:Preto, limpo com produtos químicos ou usinado/ retificado.
6. Recurso de folhas de tungstênio:Alto ponto de fusão, alta densidade, resistência à oxidação em altas temperaturas, longa vida útil, resistência à corrosão, alta qualidade, trabalhabilidade.
7. Aplicações de placa de tungstênio puro/folha de tungstênio:Placa de tungstênio usada principalmente na fabricação de fontes de luz elétrica e peças elétricas de vácuo, barcos, proteção térmica e corpos de calor em fornos de alta temperatura, equipamentos de diagnóstico e tratamento médico; como meio de elemento de aquecimento de alta temperatura e peças de estrutura de alta temperatura; para produzir espiral de tungstênio para evaporação a vácuo e tornar o alvo de pulverização catódica de tungstênio.
Grossura | Largura | Comprimento |
0,05-0,15 | 100 | 200 |
0,15-0,20 | 205 | 1000 |
0,20-0,25 | 300 | 1000 |
0,25-0,30 | 330 | 1000 |
0,30-0,50 | 350 | 800 |
0,50-0,80 | 300 | 600 |
0,80-1,0 | 300 | 500 |
1,0-1,50 | 400 | 650 |
1,50-3,0 | 300 | 600 |
>3,0 | 300 | L |
Há uma demanda crescente de material de tungstênio das indústrias eletrônica, nuclear e aeroespacial por materiais que mantenham a confiabilidade sob condições de temperatura cada vez maiores. Como suas propriedades atendem a esses requisitos, o tungstênio também está enfrentando uma demanda crescente.
As características que sustentam a demanda por tungstênio em muitas aplicações eletrônicas são:
● Resistência e rigidez a altas temperaturas.
● Boa condutividade térmica.
● Baixa expansão térmica.
● Baixa emissividade.
Grossura | Largura | Comprimento |
3,0-4,0 | 250 | 400 |
4,0-6,0 | 300 | 600 |
6,0-8,0 | 300 | 800 |
8,0-10,0 | 300 | 750 |
10,0-14,0 | 200 | 650 |
>14,0 | 200 | 500 |
Peças de forno, placas de base semicondutoras, componentes para tubos de elétrons, cátodos de emissão para evaporação de feixe de elétrons, cátodos e ânodos para implantação de íons, tubos/barcos para sinterização de capacitores, alvos para diagnóstico de raios X, cadinhos, elementos de aquecimento, radiação de raios X Blindagem, Alvos de Sputtering, Eletrodos.